- Berita Terbaru, Serba-serbi, Technology

Chip 7nm LPP Siap Disajikan Samsung, Teknologi Pertama Penggunaan Litografi EUV

Samsung kini ikut bergabung dengan beberapa perusahaan besar yang siap menyajikan kekuatan hebat pada chip 7nm. Dan hal terbaiknya, mereka justru menggunakan produksi proses 7nm Low Power Plus (LPP) dan yang pertama di industri dalam penggunaan litografi ultraviolet ekstrim (EUV).

Tentu, chip 7nm tersebut siap memberikan banyak fitur yang jauh lebih canggih, terlebih lagi proses 7LPP berbasis EUV dapat digunakan oleh pelanggan untuk membangun generasi 5G, kecerdasan buatan, pusat data, IoT, otomotif, dan jaringan chip.

Baca juga : AMD Zen 2 7nm Siap Hadir Dengan Kekuatan 5 Kali Lebih Baik Dari Zen+

Samsung mengatakan bahwa mereka telah menyelesaikan semua pengembangan teknologi proses tersebut, bahkan telah memulai produksi wafer proses 7LPP berbasis EUV di perusahaan S3 Fab di Hwaseong, Korea.

Dan tidak seperti industri lainnya, yang untuk saat ini mungkin masih terjebak dengan teknologi perendaman argon fluorida (Arf) konvensional yang menggunakan panjang gelombang 193nm dan memerlukan set masker multi-pola yang mahal, proses 7PP Samsung yang berbasis EUV memiliki keuntungan tersendiri, dimana ini menggunakan panjang gelombang 13,5nm untuk memaparkan silikon. Itu tentu karena Samsung telah meneliti litografi EUV sejak awal tahun 2000-an yang membutuhkan waktu hampir dua dekade agar teknologi ini menjadi praktis dan tentu saja menjadi kenyataan.

Manfaat Besar Proses EUV Pada Chip 7nm

Menurut Samsung, litografi EUV memungkinkan penggunaan masker tunggal, sedangkan Arf mungkin memerlukan hingga empat masker. Rata-rata, proses 7LPP Samsung harus mengurangi jumlah total masker hingga 20 persen dibandingkan dengan proses non-EUV. Ini akan menghemat biaya dan waktu bagi pelanggan Samsung.

Di luar kompleksitas yang lebih rendah dan hasil yang lebih baik, Samsung juga menjanjikan bahwa proses EUV 7nm akan memberikan peningkatan 40 persen dalam efisiensi area dengan kinerja 20 persen lebih tinggi atau konsumsi daya hingga 50 persen lebih rendah jika dibandingkan dengan proses FinFET 10nm. Ini tampak seperti peningkatan yang signifikan di era ketika Hukum Moore sudah dianggap mati.

Menurut Peter Jenkins, wakil presiden pemasaran perusahaan di ASML, pemasok terbesar di dunia sistem photolithography untuk industri semikonduktor, ia mengatakan bahwa :

“Komersialisasi teknologi EUV adalah sebuah revolusi untuk industri semikonduktor dan akan memiliki dampak besar pada kehidupan kita sehari-hari. Ini adalah kesenangan kita untuk berkolaborasi dengan Samsung dan pembuat chip terkemuka lainnya pada perubahan mendasar dalam manufaktur proses semikonduktor.”

Samsung mengatakan mitra ekosistemnya (seperti Ansys, Arm, Cadence, Mentor, SEMCO, Synopsys dan VeriSilicon) akan memberikan Foundation dan Advanced IP, Advanced Packaging, dan Services untuk sepenuhnya memungkinkan pelanggan perusahaan untuk mengembangkan produk mereka di platform baru tersebut.

 Baca Juga :



Comments

About Indra Setia Hidayat

Saya bisa disebut sebagai tech lover, gamer, a father of 2 son, dan hal terbaik dalam hidup saya bisa jadi saat membangun sebuah Rig. Jauh didalam benak saya, ada sebuah mimpi dan harapan, ketika situs ini memiliki perkembangan yang berarti di Indonesia atau bahkan di dunia. Tapi, jalan masih panjang, dan cerita masih berada di bagian awal. Twitter : @murdockcruz Email : murdockavenger@gmail.com
Read All Posts By Indra Setia Hidayat